顧名思義，去離子水設(shè)備主要是將水中的陰陽(yáng)離子，通過(guò)一定的技術(shù)手段給剔除，從而使得原水變成適合工業(yè)生產(chǎn)的純水。去離子水設(shè)備一般是采用先進(jìn)的EDI處理技術(shù)來(lái)制取，凈化率可高達(dá)90%以上。

　　眾所周知，自然中的水里一般含有鈉、鈣、鎂、氯化物、硝酸鹽、碳酸氫鹽等溶解物，這些化合物都是由陰陽(yáng)離子組成。原水在通過(guò)反滲透膜的時(shí)候，反滲透膜會(huì)將超過(guò)90%的陰陽(yáng)離子給攔截，RO純水(EDI給水)電阻率的一般范圍是0.05-1.0MΩ·cm，即電導(dǎo)率的范圍為20-1μS/cm。根據(jù)應(yīng)用的情況，去離子水電阻率的范圍一般為5-18MΩ·cm。另外原水中也可能包括其它微量元素、溶解的氣體(例如CO2)和一些弱電解質(zhì)(例如硼，二氧化硅)，因此EDI去離子水設(shè)備的作用就是通過(guò)除去電解質(zhì)(包括弱電介質(zhì))的過(guò)程，將水的電阻率從0.05-1.0MΩ·cm提高到5-18MΩ·cm。 　　去離子水設(shè)備工藝流程 　　一般情況下，去離子水設(shè)備的工藝流程主要分為3種，分別如下。 　　1、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過(guò)濾器→用水對(duì)象 　　2、預(yù)處理→一級(jí)反滲透→加藥機(jī)(PH調(diào)節(jié))→中間水箱→第二級(jí)反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→精密過(guò)濾器→用水對(duì)象 　　3、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→精密過(guò)濾器→用水對(duì)象 　　隨著工業(yè)的進(jìn)步，純水設(shè)備的應(yīng)用也將越來(lái)越廣泛，目前，去離子水設(shè)備已經(jīng)廣泛應(yīng)用于食品、生物、制藥和電鍍等行業(yè)中。 　　以上就是關(guān)于去離子水設(shè)備的原理和工藝流程介紹，有不明白的歡迎前來(lái)咨詢我們的小編，我們將竭誠(chéng)為您服務(wù)。